HIGH-TC SUPERCONDUCTING THIN-FILM FABRICATION BY MODIFIED DC SPUTTERING PROCESS

被引：11
作者：
LIN, RJ
KUNG, JH
WU, PT
机构：
来源：
PHYSICA C | 1988年 / 153卷
关键词：
D O I：
10.1016/S0921-4534(88)80093-5
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
收藏
页码：796 / 797
页数：2
相关论文
共 6 条
  • [1] CHAPMAN B, 1980, GLOW DISCHARGE PROCE, P188
  • [2] EVIDENCE FOR SUPERCONDUCTIVITY ABOVE 40 K IN THE LA-BA-CU-O COMPOUND SYSTEM
    CHU, CW
    HOR, PH
    MENG, RL
    GAO, L
    HUANG, ZJ
    WANG, YQ
    [J]. PHYSICAL REVIEW LETTERS, 1987, 58 (04) : 405 - 407
  • [3] PREFERENTIAL IONIZATION IN REACTIVE SPUTTERING DISCHARGES
    HECQ, M
    HECQ, A
    FONTIGNIES, M
    [J]. THIN SOLID FILMS, 1984, 115 (03) : L45 - L48
  • [4] KINGERY WD, 1976, INTRO CERAMICS, P34
  • [5] LIN RJ, 1987, FAL MAT RES SOC M BO
  • [6] THORNTON JA, 1982, DEPOSITION TECHNOLOG, P179
1