SOLUBILITY RATE OF POLY-(METHYL METHACRYLATE), PMMA, ELECTRON-RESIST

被引：44

作者：

GREENEICH, JS ^{[1
]}

机构：

[1] GM CORP, TECH CTR, ELECTR DEPT, RES LABS, WARREN, MI 48090 USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2401767

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1669 / 1671

页数：3

共 7 条

EVERHART, TE ;

HOFF, PH .

[2] MODEL FOR EXPOSURE OF ELECTRON-SENSITIVE RESISTS [J].

GREENEICH, JS ;

VANDUZER, T .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1973, 10 (06) :1056-1059

[3]

GREENEICH JS, 1973, THESIS U CALIFORNIA

[4]

GREENEICH JS, TO BE PUBLISHED

[5] ELECTRON RESISTS FOR MICROCIRCUIT AND MASK PRODUCTION [J].

HATZAKIS, M .

[6]

HATZAKIS M, 1969, 10 S EL ION LAS BEAM, P107

[7]

TING C, 1971, 11TH S EL ION LAS BE, P337