HETEROEPITAXIAL GROWTH OF CD1-XMNXTE ON GAAS BY METALORGANIC CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：25
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作者：
NOUHI, A
STIRN, RJ
机构：
来源：
APPLIED PHYSICS LETTERS | 1987年 / 51卷 / 26期
关键词：
D O I：
10.1063/1.98927
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
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页码：2251 / 2253
页数：3
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