X-RAY LITHOGRAPHIC REPLICATION OF ELECTRON-BEAM GENERATED PATTERNS

被引：0

作者：

WATTS, RK ^{[1
]}

DARLEY, HM ^{[1
]}

GUTERMAN, DC ^{[1
]}

BLOCKER, TG ^{[1
]}

机构：

[1] TEXAS INSTR INC,DALLAS,TX 75222

来源：

IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES | 1976年 / 23卷 / 11期

关键词：

D O I：

10.1109/T-ED.1976.18610

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

收藏

页码：1253 / 1253

页数：1

相关论文

共 2 条

[1] FABRICATION OF SILICON MOS DEVICES USING X-RAY LITHOGRAPHY [J].

BERNACKI, SE ;

SMITH, HI .

IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 1975, ED22 (07) :421-428

[2] HIGH-SPEED REPLICATION OF SUBMICRON FEATURES ON LARGE AREAS BY X-RAY LITHOGRAPHY [J].

MAYDAN, D ;

COQUIN, GA ;

MALDONADO, JR ;

SOMEKH, S ;

LOU, DY ;

TAYLOR, GN .

IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 1975, ED22 (07) :429-433