CZOCHRALSKI SILICON CRYSTAL-GROWTH IN THE VERTICAL MAGNETIC-FIELD

被引：86

作者：

HOSHIKAWA, K

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1982年 / 21卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.21.L545

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：L545 / L547

页数：3

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