INVESTIGATION OF THE OXYGEN-RELATED LATTICE-DEFECTS IN CZOCHRALSKI SILICON BY MEANS OF ELECTRON-MICROSCOPY TECHNIQUES

被引:136
作者
BENDER, H
机构
来源
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH | 1984年 / 86卷 / 01期
关键词
D O I
10.1002/pssa.2210860126
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页码:245 / 261
页数:17
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