NEW CHEMICAL DRY ETCHING

被引：75

作者：

HORIIKE, Y ^{[1
]}

SHIBAGAKI, M ^{[1
]}

机构：

[1] TOKYO SHIBAURA ELECT CO LTD,TOSHIBA RES & DEV CTR,KAWASAKI,KANAGAWA,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1976年 / 15卷

关键词：

D O I：

10.7567/JJAPS.15S1.13

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页数：6

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共 3 条

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