ELECTRON-DIFFRACTION STUDY OF VACUUM-DEPOSITED IN2TE3 THIN-FILMS

被引：12
作者：
ROUSINA, R
SHIVAKUMAR, GK
机构：
来源：
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY | 1989年 / 38卷 / 03期
关键词：
D O I：
10.1016/0257-8972(89)90096-0
中图分类号：
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ; 080502 ;
摘要：
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页码：353 / 358
页数：6
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