STRUCTURAL AND ELECTRICAL-PROPERTIES OF PHOTO-CVD SILICON-NITRIDE FILM

被引：0

作者：

NUMASAWA, Y ^{[1
]}

YAMAZAKI, K ^{[1
]}

HAMANO, K ^{[1
]}

KOBAYASHI, K ^{[1
]}

机构：

[1] NIPPON ELECT CO LTD,DEPT PROC DEV,DIV VLSI DEV,KANAGAWA 229,JAPAN

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1983年 / 130卷 / 03期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：C101 / C101

页数：1

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