CORRECTION

被引：1

作者：

FAIR, RB

机构：

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1973年 / 44卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1661938

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

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共 1 条

[1] PROFILE ESTIMATION OF HIGH-CONCENTRATION ARSENIC DIFFUSIONS IN SILICON [J].

FAIR, RB .

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1972, 43 (03) :1278-&