Influence of cathode roughness on discharge homogeneity of a high-pulse repetition frequency long-pulse XeCl laser

被引：0

作者：

O. Uteza

P. Delaporte

B. Fontaine

B. Forestier

M. Sentis

I. Tassy

机构：

[1] Institut de Recherche sur les Phénomènes Hors Equilibre,

[2] U.M.R. 6594 C.N.R.S.,undefined

[3] Aix-Marseille Universities I & II,undefined

[4] Case 918,undefined

[5] 163,undefined

[6] Av. de Luminy,undefined

[7] 13288 Marseille Cedex 9,undefined

[8] France (Fax: +33-491/829-289,undefined

[9] E-mail: olivier.uteza@irphe-lp3.univ-mrs.fr),undefined

来源：

Applied Physics B | 1998年 / 67卷

关键词：

PACS: 42.55.Lt; 52.80.-s;

D O I：

暂无

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学科分类号：

摘要：

引用

页码：185 / 191

页数：6