Holistic Overlay Control for Multi-Patterning Process layers at the 10-nm and 7-nm nodes

被引：14

作者：

Verstappen, Leon ^{[1
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Mos, Evert ^{[1
]}

Wardenier, Peter ^{[1
]}

Megens, Henry ^{[1
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Schmitt-Weaver, Emil ^{[1
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Bhattacharyya, Kaustuve ^{[1
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Adam, Omer ^{[1
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Grzela, Grzegorz ^{[1
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van Heijst, Joost ^{[1
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Willems, Lotte ^{[1
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Wildenberg, Jochem ^{[1
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Ignatova, Velislava ^{[1
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Chen, Albert ^{[1
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Elich, Frank ^{[1
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Rajasekharan, Bijoy ^{[1
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Vergaij-Huizer, Lydia ^{[1
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Lewis, Brian ^{[1
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Kea, Marc ^{[1
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Mulkens, Jan ^{[1
]}

机构：

[1] ASML Netherlands BV, De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven, Netherlands

来源：

METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL FOR MICROLITHOGRAPHY XXX | 2016年 / 9778卷

关键词：

D O I：

10.1117/12.2230390

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页数：8