More stable algorithm for rigorous coupled wave analysis applied to topography simulation in optical lithography and its numerical implementation

被引：3

作者：

Lee, SG ^{[1
]}

Lee, KI ^{[1
]}

Lee, JU ^{[1
]}

Choi, YK ^{[1
]}

Kim, HS ^{[1
]}

机构：

[1] INHA UNIV,SCH ENGN,DEPT ELECT MAT & DEVICES ENGN,INCHON 402751,SOUTH KOREA

来源：

OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX | 1996年 / 2726卷

关键词：

lithography; simulation; coupled wave analysis; waveguide method; bleaching; exposure;

D O I：

10.1117/12.240966

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：11