Temperature silicides for poly-silicon thin film transistor applications

被引：0

作者：

Sarcona, GT ^{[1
]}

Hatalis, MK ^{[1
]}

机构：

[1] LEHIGH UNIV,DEPT EECS,DISPLAY RES LAB,BETHLEHEM,PA 18015

来源：

SILICIDE THIN FILMS - FABRICATION, PROPERTIES, AND APPLICATIONS | 1996年 / 402卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

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页数：6