High-index immersion fluid enables 1.17 NA objective with 12 mm working distance

被引：0
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作者：
不详
机构：
来源：
LASER FOCUS WORLD | 2016年 / 52卷 / 01期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ; 0803 ;
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共 1 条
  • [1] Fluid-photoresist interactions and imaging in high-index immersion lithography
    Tran, Hoang V.
    Hendrickx, Eric
    Van Roey, Frieda
    Vandenberghe, Geert
    French, Roger H.
    JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2009, 8 (03):
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