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High resolution deep UV laser mask repair based on near-field optical technology
被引:5
作者
:
Lieberman, K
论文数:
0
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0
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0
机构:
NANON LITHOG LTD,IL-91487 MALHA JERUSALEM,ISRAEL
NANON LITHOG LTD,IL-91487 MALHA JERUSALEM,ISRAEL
Lieberman, K
[
1
]
Terkel, H
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NANON LITHOG LTD,IL-91487 MALHA JERUSALEM,ISRAEL
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Terkel, H
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Rudman, M
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NANON LITHOG LTD,IL-91487 MALHA JERUSALEM,ISRAEL
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Rudman, M
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Ignatov, A
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NANON LITHOG LTD,IL-91487 MALHA JERUSALEM,ISRAEL
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Ignatov, A
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Lewis, A
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NANON LITHOG LTD,IL-91487 MALHA JERUSALEM,ISRAEL
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Lewis, A
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1
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机构
:
[1]
NANON LITHOG LTD,IL-91487 MALHA JERUSALEM,ISRAEL
来源
:
PHOTOMASK AND X-RAY MASK TECHNOLOGY III
|
1996年
/ 2793卷
关键词
:
D O I
:
10.1117/12.245238
中图分类号
:
O43 [光学];
学科分类号
:
070207 ;
0803 ;
摘要
:
引用
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页码:481 / 488
页数:8
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