Measurement of microlithography aerial image quality

被引：7

作者：

Kirk, JP ^{[1
]}

Brunner, TA ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,ADV SEMICOND TECHNOL CTR,HOPEWELL JCT,NY 12533

来源：

OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX | 1996年 / 2726卷

关键词：

image measurement; aberrations; aerial image; image formation; lens performance; AFM; metrology; photoresist;

D O I：

10.1117/12.240915

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：7