Wafer and chip deformation caused by pattern transfer

被引：1

作者：

Imai, A ^{[1
]}

Hasegawa, N ^{[1
]}

Okazaki, S ^{[1
]}

Sakaguchi, K ^{[1
]}

机构：

[1] HITACHI LTD,SEMICOND & INTEGRATED CIRCUITS DIV,SEMICOND DEV CTR,KOKUBUNJI,TOKYO 185,JAPAN

来源：

OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX | 1996年 / 2726卷

关键词：

optical lithography; overlay; wafer deformation;

D O I：

10.1117/12.240975

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：9