Chemically and structurally modified PS-b-PMMA block copolymers for lithography applications

被引：0

作者：

Zhou, Sunshine X. ^{[1
]}

Janes, Dustin W. ^{[1
]}

Cushen, Julia D. ^{[1
]}

Willson, C. Grant ^{[1
]}

Ellison, Christopher J. ^{[1
]}

机构：

[1] Univ Texas Austin, McKetta Dept Chem Engn, Austin, TX 78712 USA

来源：

ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 2014年 / 247卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

290-PMSE

引用

页数：1