193-nm lithography

被引：6

作者：

Rothschild, M ^{[1
]}

Forte, AR ^{[1
]}

Horn, MW ^{[1
]}

Kunz, RR ^{[1
]}

Palmateer, SC ^{[1
]}

Sedlacek, JHC ^{[1
]}

机构：

[1] MIT,LINCOLN LAB,LEXINGTON,MA 02173

来源：

LASERS AS TOOLS FOR MANUFACTURING OF DURABLE GOODS AND MICROELECTRONICS | 1996年 / 2703卷

关键词：

excimer; lithography; photo resists; optical materials; silylation; projection optics;

D O I：

10.1117/12.237751

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：398 / 404

页数：7