Microwave surfatron system for plasma processing

被引:9
作者
Bardos, L
Barankova, H
Berg, S
机构
[1] Angstrom Consortium Thin Film Proc., Uppsala University
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1996年 / 14卷 / 02期
关键词
D O I
10.1116/1.580109
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
[No abstract available]
引用
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页数:4
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