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Simulations of inhomogeneous magnetization processes in ultrathin films with growth-induced roughness
被引:0
作者
:
Moschel, A
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
NATL INST STAND & TECHNOL,ELECTRON PHYS GRP,GAITHERSBURG,MD 20899
Moschel, A
Zangwill, A
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机构:
NATL INST STAND & TECHNOL,ELECTRON PHYS GRP,GAITHERSBURG,MD 20899
Zangwill, A
Stiles, MD
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机构:
NATL INST STAND & TECHNOL,ELECTRON PHYS GRP,GAITHERSBURG,MD 20899
Stiles, MD
机构
:
[1]
NATL INST STAND & TECHNOL,ELECTRON PHYS GRP,GAITHERSBURG,MD 20899
[2]
GEORGIA INST TECHNOL,SCH PHYS,ATLANTA,GA 30332
来源
:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1996年
/ 79卷
/ 08期
基金
:
美国国家科学基金会;
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.361550
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:4994 / 4994
页数:1
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