The Effect of X-ray Irradiation on the Novella Type Photoresist

被引：0

作者：

You, Hsin-Chiang ^{[1
]}

Shieh, Shao-Hui ^{[1
]}

Zhang, Shiang-Jun ^{[1
]}

Ko, Fu-Hsiang ^{[2
]}

Lin, Hsiung-Min ^{[2
]}

Tsaur, Shyh-Chang ^{[3
]}

Lin, Chin-Che ^{[3
]}

机构：

[1] Natl Chin Yi Univ Technol, Dept Elect Engn, Taichung, Taiwan

[2] Natl Chiao Tung Univ, Inst Nanotechnol, Hsinchu 300, Taiwan

[3] Univ Asia, Taichung, Taiwan

来源：

INEC: 2010 3RD INTERNATIONAL NANOELECTRONICS CONFERENCE, VOLS 1 AND 2 | 2010年

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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