Etching properties of DLC films prepared by the CVD method - An application of DLC films to the IC fabrication process

被引：0

作者：

Komatsu, Y ^{[1
]}

Alanazi, A ^{[1
]}

Hirakuri, KK ^{[1
]}

机构：

[1] Tokyo Denki Univ, Fac Sci & Engn, Dept Appl Elect, Hatoyama, Saitama 35003, Japan

来源：

DIAMOND FILMS AND TECHNOLOGY | 1997年 / 7卷 / 5-6期

关键词：

CVD; DLC film; IC fabrication process; etching; resist material;

D O I：

暂无

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：321 / 324

页数：4