Plasma enhanced chemical vapor deposition of zirconium nitride thin films

被引：0

作者：

Atagi, LM ^{[1
]}

Samuels, JA ^{[1
]}

Smith, DC ^{[1
]}

Hoffman, DM ^{[1
]}

机构：

[1] LOS ALAMOS NATL LAB,LOS ALAMOS,NM 87545

来源：

COVALENT CERAMICS III - SCIENCE AND TECHNOLOGY OF NON-OXIDES | 1996年 / 410卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

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页数：6