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Chemistry of chlorine incorporation into silica glass
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作者
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Kirchhof, J
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Inst Phys Hochtechnol E V, D-07702 Jena, Germany
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Kirchhof, J
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Unger, S
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Knappe, B
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Pissler, HJ
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Ruppert, K
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Köppler, R
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机构
:
[1]
Inst Phys Hochtechnol E V, D-07702 Jena, Germany
来源
:
PROCEEDINGS OF THE 6TH INTERNATIONAL OTTO SCHOTT COLLOQUIUM
|
1998年
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TQ174 [陶瓷工业];
TB3 [工程材料学];
学科分类号
:
0805 ;
080502 ;
摘要
:
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相关论文
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[1]
SOLUBILITY AND DIFFUSION OF CHLORINE IN SILICA GLASS
HERMANN, W
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Philips GmbH Forschungslaboratorium, Aachen, Aachen, West Ger, Philips GmbH Forschungslaboratorium Aachen, Aachen, West Ger
HERMANN, W
RAU, H
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UNGELENK, J
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Philips GmbH Forschungslaboratorium, Aachen, Aachen, West Ger, Philips GmbH Forschungslaboratorium Aachen, Aachen, West Ger
UNGELENK, J
[J].
BERICHTE DER BUNSEN-GESELLSCHAFT-PHYSICAL CHEMISTRY CHEMICAL PHYSICS,
1985,
89
(04):
: 423
-
426
[2]
DIFFUSION BEHAVIOR OF FLUORINE IN SILICA GLASS
KIRCHHOF, J
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INST PHYS HOCHTECHNOL,D-07702 JENA,GERMANY
KIRCHHOF, J
UNGER, S
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UNGER, S
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KLEIN, KF
KNAPPE, B
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机构:
INST PHYS HOCHTECHNOL,D-07702 JENA,GERMANY
KNAPPE, B
[J].
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS,
1995,
181
(03)
: 266
-
273
[3]
ABOUT THE FLUORINE CHEMISTRY IN MCVD - THE MECHANISM OF FLUORINE INCORPORATION INTO SIO2 LAYERS
KIRCHHOF, J
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KIRCHHOF, J
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KLEINERT, P
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FUNKE, A
[J].
CRYSTAL RESEARCH AND TECHNOLOGY,
1987,
22
(04)
: 495
-
501
[4]
WALKER KL, 1983, OPT FIB COMM C
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[1]
SOLUBILITY AND DIFFUSION OF CHLORINE IN SILICA GLASS
HERMANN, W
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Philips GmbH Forschungslaboratorium, Aachen, Aachen, West Ger, Philips GmbH Forschungslaboratorium Aachen, Aachen, West Ger
HERMANN, W
RAU, H
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RAU, H
UNGELENK, J
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Philips GmbH Forschungslaboratorium, Aachen, Aachen, West Ger, Philips GmbH Forschungslaboratorium Aachen, Aachen, West Ger
UNGELENK, J
[J].
BERICHTE DER BUNSEN-GESELLSCHAFT-PHYSICAL CHEMISTRY CHEMICAL PHYSICS,
1985,
89
(04):
: 423
-
426
[2]
DIFFUSION BEHAVIOR OF FLUORINE IN SILICA GLASS
KIRCHHOF, J
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UNGER, S
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KLEIN, KF
KNAPPE, B
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机构:
INST PHYS HOCHTECHNOL,D-07702 JENA,GERMANY
KNAPPE, B
[J].
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS,
1995,
181
(03)
: 266
-
273
[3]
ABOUT THE FLUORINE CHEMISTRY IN MCVD - THE MECHANISM OF FLUORINE INCORPORATION INTO SIO2 LAYERS
KIRCHHOF, J
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KIRCHHOF, J
UNGER, S
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KNAPPE, B
KLEINERT, P
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KLEINERT, P
FUNKE, A
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0
FUNKE, A
[J].
CRYSTAL RESEARCH AND TECHNOLOGY,
1987,
22
(04)
: 495
-
501
[4]
WALKER KL, 1983, OPT FIB COMM C
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