A novel positive working photosensitive polyimide for wafer-level CSP packages

被引：6

作者：

Yuba, T ^{[1
]}

Suwa, M ^{[1
]}

Fujita, Y ^{[1
]}

Tomikawa, M ^{[1
]}

Ohbayashi, G ^{[1
]}

机构：

[1] Toray Industries Ltd, Elect & Imaging Mat Res Labs, Otsu, Shiga 5200842, Japan

来源：

关键词：

chemical resistance; inter layer dielectrics; flux; stripper;

D O I：

10.2494/photopolymer.15.201

中图分类号：

O63 [高分子化学（高聚物）];

学科分类号：

070305 ; 080501 ; 081704 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

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页数：3