Improved crystallinity of GaInNAs by additional rapid thermal annealing (RTA)

被引：0

作者：

Kondow, M ^{[1
]}

Kitatani, T ^{[1
]}

Aoki, M ^{[1
]}

Nakatsuka, S ^{[1
]}

Kudo, M ^{[1
]}

机构：

[1] Hitachi Ltd, RWCP Optoelect Hitachi Lab, Cent Res Lab, Kokubunji, Tokyo 185, Japan

来源：

LEOS 2001: 14TH ANNUAL MEETING OF THE IEEE LASERS & ELECTRO-OPTICS SOCIETY, VOLS 1 AND 2, PROCEEDINGS | 2001年

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：622 / 623

页数：2