Process windows of nickel and platinum silicides in deep sub-micron regime

被引：24

作者：

Xu, DX ^{[1
]}

Das, SR ^{[1
]}

McCaffrey, JP ^{[1
]}

Peters, CJ ^{[1
]}

Erickson, LE ^{[1
]}

机构：

[1] NATL RES COUNCIL CANADA,INST MICROSTRUCT SCI,OTTAWA,ON K1A 0R6,CANADA

来源：

SILICIDE THIN FILMS - FABRICATION, PROPERTIES, AND APPLICATIONS | 1996年 / 402卷

关键词：

D O I：

10.1557/PROC-402-59

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

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页数：6