Improved sheath model for the biased substrate in vacuum arc with cathode spots

被引：0

作者：

Cheng, ZY ^{[1
]}

Zou, JY ^{[1
]}

Yang, L ^{[1
]}

Cheng, LC ^{[1
]}

机构：

[1] HUAZHONG UNIV SCI & TECHNOL,DEPT ELECT ENGN,WUHAN 430074,HUBEI,PEOPLES R CHINA

来源：

ISDEIV - XVIITH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON DISCHARGES AND ELECTRICAL INSULATION IN VACUUM, PROCEEDINGS, VOLS I AND II | 1996年

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：863 / 866

页数：4