Giant magnetoresistance in Co/Cu multilayers sputtered with Kr

被引：5

作者：

Tsutsumi, K ^{[1
]}

deHaan, P ^{[1
]}

Eisenberg, M ^{[1
]}

Monsma, D ^{[1
]}

Lodder, JC ^{[1
]}

机构：

[1] MITSUBISHI ELECTR CORP,ADV TECHNOL R&D CTR,AMAGASAKI,HYOGO 661,JAPAN

来源：

JOURNAL OF MAGNETISM AND MAGNETIC MATERIALS | 1996年 / 156卷 / 1-3期

关键词：

D O I：

10.1016/0304-8853(95)00886-1

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

This paper presents some results of magnetoresistance measurements on Kr-sputter-deposited Co/Cu multilayers. We find that Co/Cu MLs sputtered with Kr gas show a larger C-MR effect than those sputtered with Ar gas.

引用

页码：327 / 328

页数：2