High voltage scanning electron microscopy for in-situ electromigration studies

被引：0

作者：

Bravman, JC ^{[1
]}

Flinn, PA ^{[1
]}

Marieb, TN ^{[1
]}

Lee, S ^{[1
]}

Doan, J ^{[1
]}

机构：

[1] Stanford Univ, Dept Mat Sci & Engn, Stanford, CA 94305 USA

来源：

ELECTRON MICROSCOPY 1998, VOL 3: MATERIALS SCIENCE 2 | 1998年

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

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页数：2