Development of new batch-type plasma assisted NOR (native-oxide-removal) dry cleaning equipment

被引：7

作者：

Kim, WS ^{[1
]}

Hwang, WG ^{[1
]}

Kim, IK ^{[1
]}

Yun, KY ^{[1
]}

Lee, KM ^{[1
]}

Chae, SK ^{[1
]}

机构：

[1] Samsung Elect Co Ltd, Memory Fab Ctr, Equipment Innovat Team, Hwansung 447701, Kyungki, South Korea

来源：

ULTRA CLEAN PROCESSING OF SILICON SURFACES VII | 2005年 / 103-104卷

关键词：

batch-type process; NOR(Native oxide removal); dry cleaning;

D O I：

10.4028/www.scientific.net/SSP.103-104.63

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页数：4