Advances in topological materials

被引:3
作者
Zhang, Shoucheng [1 ]
Jackson, J. G. [1 ]
Wood, C. J. [1 ]
Fang, Zhong [2 ]
Xue, Qi-Kun [3 ]
机构
[1] Stanford Univ, Dept Phys, Stanford, CA 94305 USA
[2] Chinese Acad Sci, Inst Phys, Beijing 100080, Peoples R China
[3] Tsinghua Univ, Dept Phys, Beijing, Peoples R China
关键词
D O I
10.1007/s11467-011-0224-x
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
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