Dynamic three-dimensional mask-wafer positioning with nanometer exposure overlay accuracy

被引：1

作者：

Moon, EE ^{[1
]}

Everett, PN ^{[1
]}

Meinhold, MW ^{[1
]}

Smith, HI ^{[1
]}

机构：

[1] MIT, Elect Res Lab, Cambridge, MA 02139 USA

来源：

MICROPROCESSES AND NANOTECHNOLOGY 2000, DIGEST OF PAPERS | 2000年

关键词：

D O I：

10.1109/IMNC.2000.872741

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页数：2