Angled XPS analysis of low-k dielectric surfaces after cleaning

被引：0

作者：

Tan, YS

Chooi, SYM

Sin, CY

Ee, PY

Srinivasan, MP

Pehkonen, SO

机构：

[1] Chartered Semicond Mfg Ltd, Adv Module Technol Dev Cleaning Technol, Singapore 738406, Singapore

[2] Natl Univ Singapore, Dept Chem & Biomol Engn, Singapore 117576, Singapore

来源：

ULTRA CLEAN PROCESSING OF SILICON SURFACES VII | 2005年 / 103-104卷

关键词：

low-k dielectric; cleaning; contamination; X-ray photoelectron spectroscopy;

D O I：

10.4028/www.scientific.net/SSP.103-104.331

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页数：5