Effect of wafer rotation on photoresist stripping in supercritical CO2

被引：4

作者：

Saga, Koichiro ^{[1
]}

Kuniyasu, Hitoshi ^{[1
]}

Hattori, Takeshi ^{[1
]}

Saito, K. ^{[2
]}

Mizobata, I. ^{[2
]}

Iwata, T. ^{[2
]}

Hirae, S. ^{[2
]}

机构：

[1] Sony Corp, Atsugi, Kanagawa 2438585, Japan

[2] Dainippon Screen Mfg Co Ltd, Kyoto 6028585, Japan

来源：

ULTRA CLEAN PROCESSING OF SEMICONDUCTOR SURFACES VIII | 2008年 / 134卷

关键词：

supercritical CO2; photoresist stripping; wafer rotation; low-k film;

D O I：

10.4028/www.scientific.net/SSP.134.355

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页数：3