Random deposition as a growth mode in atomic layer deposition (vol 10, pg 159, 2004)

被引：0
作者：
Puurunen, RL
机构：
来源：
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION | 2005年 / 11卷 / 05期
关键词：
D O I：
10.1002/cvde.200590011
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
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页码：234 / 234
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