Virtual metrology: A solution for wafer to wafer advanced process control

被引：48

作者：

Chen, PH ^{[1
]}

Wu, S ^{[1
]}

Lin, JS ^{[1
]}

Ko, F ^{[1
]}

Lo, H ^{[1
]}

Wang, J ^{[1
]}

Yu, CH ^{[1
]}

Liang, MS ^{[1
]}

机构：

[1] Taiwan Semicond Mfg Co Ltd, Hsinchu 30077, Taiwan

来源：

ISSM 2005: IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing, Conference Proceedings | 2005年

关键词：

D O I：

10.1109/ISSM.2005.1513322

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

Virtual metrology (VM) is a novel technology to predict wafer performance from tool state variables. Virtual metrology can enable wafer to wafer control without additional real metrology.

引用

页码：155 / 157

页数：3