Reduction of optical insertion loss in traveling wave electroabsorption modulators by undercut-etching the active region

被引：0

作者：

Cheng, WC ^{[1
]}

Chiu, YJ ^{[1
]}

Bowers, JE ^{[1
]}

机构：

[1] Natl Sun Yat Sen Univ, Dept Optelectro Engn, Kaohsiung 80424, Taiwan

来源：

2003 IEEE LEOS ANNUAL MEETING CONFERENCE PROCEEDINGS, VOLS 1 AND 2 | 2003年

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1032 / 1033

页数：2