Development of a plasma laser source for lithography in extreme ultraviolet

被引:0
作者
Soullié, G [1 ]
Lafon, C [1 ]
Rosch, R [1 ]
Babonneau, D [1 ]
Garaude, F [1 ]
Huelvan, S [1 ]
Trublet, T [1 ]
Bonnet, L [1 ]
Marmoret, R [1 ]
机构
[1] CEA, DAM Ile de France, F-91680 Bruyeres Le Chatel, France
来源
JOURNAL DE PHYSIQUE IV | 2003年 / 108卷
关键词
D O I
10.1051/jp4:20030643
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
收藏
页码:275 / 279
页数:5
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共 4 条
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JOURNAL DE PHYSIQUE IV, 2001, 11 (PR7) :179-182