Development of a plasma laser source for lithography in extreme ultraviolet

被引：0

作者：

Soullié, G ^{[1
]}

Lafon, C ^{[1
]}

Rosch, R ^{[1
]}

Babonneau, D ^{[1
]}

Garaude, F ^{[1
]}

Huelvan, S ^{[1
]}

Trublet, T ^{[1
]}

Bonnet, L ^{[1
]}

Marmoret, R ^{[1
]}

机构：

[1] CEA, DAM Ile de France, F-91680 Bruyeres Le Chatel, France

来源：

JOURNAL DE PHYSIQUE IV | 2003年 / 108卷

关键词：

D O I：

10.1051/jp4:20030643

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：275 / 279

页数：5