Investigation of SH radical during the diamond thin film deposition in the HFCVD by means of CRDS

被引：0

作者：

Buzaianu, Madalina ^{[1
]}

Makarov, Vladimir ^{[2
]}

Weiner, Brad R. ^{[3
]}

Morell, Gerardo ^{[1
]}

机构：

[1] Univ Puerto Rico, Dept Phys, Rio Piedras, PR 00931 USA

[2] Univ Puerto Rico, Dept Chem, San Juan, PR 00931 USA

[3] Univ Puerto Rico, Dept Chem, Univ Stn, San Juan, PR 00931 USA

来源：

ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 2007年 / 234卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

349-PHYS

引用

页数：1