Fatigue effects in ferroelectric films studied by scanning force microscopy

被引：0

作者：

Gruverman, A ^{[1
]}

Auciello, O

Tokumoto, H

机构：

[1] Natl Inst Adv Interdisciplinary Res, Joint Res Ctr Atom Technol, Tsukuba, Ibaraki 305, Japan

[2] MCNC, Elect Technol Div, Res Triangle Pk, NC 27709 USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1080/10584589808238794

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

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