Direct experimental determination and modeling of VUV induced bulk conduction in dielectrics during plasma processing

被引：22

作者：

Joshi, M ^{[1
]}

McVittie, JP ^{[1
]}

Saraswat, K ^{[1
]}

机构：

[1] Stanford Univ, Ctr Integrated Syst, Stanford, CA 94305 USA

来源：

2000 5TH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESS-INDUCED DAMAGE | 2000年

关键词：

D O I：

10.1109/PPID.2000.870655

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页数：4