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In situ deposition of thallium-containing oxides
被引：1
作者：
Myers, KE
[1
]
机构：
[1] DUPONT CO INC,CR&D,EXPT STN E304C110,WILMINGTON,DE 19880
来源：
OXIDE SUPERCONDUCTOR PHYSICS AND NANO-ENGINEERING II
|
1996年
/
2697卷
关键词：
superconductors;
thallium cuprates;
thin films;
in situ deposition;
TlBaCaCuO;
TlPbSrCaCuO;
Tl2Ta2O6;
D O I：
10.1117/12.250235
中图分类号：
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ;
080502 ;
摘要：
引用
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页码：160 / 171
页数：12
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