Influence of oxygen vacancies on the electronic structure of HfO2 films (vol 76, art no 165411, 2007)

被引：1
作者：
Cho, Deok-Yong
Lee, Jae-Min
Oh, S. -J.
Jang, Hoyoung
Kim, J. -Y.
Park, J. -H.
Tanaka, A.
机构：
来源：
PHYSICAL REVIEW B | 2007年 / 76卷 / 24期
关键词：
D O I：
10.1103/PhysRevB.76.249902
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
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共 1 条
  • [1] Influence of oxygen vacancies on the electronic structure of HfO2 films
    Cho, Deok-Yong
    Lee, Jae-Min
    Oh, S. -J.
    Jang, Hoyoung
    Kim, J. -Y.
    Park, J. -H.
    Tanaka, A.
    [J]. PHYSICAL REVIEW B, 2007, 76 (16)
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