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Overlay improvement through overlay modeling.
被引：1
作者：
Borodovsky, Y
[1
]
机构：
[1] INTEL CORP,PORTLAND TECHNOL DEV,HILLSBORO,OR 97124
来源：
OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX
|
1996年
/
2726卷
关键词：
microlithography;
overlay;
registration;
modeling;
D O I：
10.1117/12.240973
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ;
0803 ;
摘要：
引用
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页码：311 / 322
页数：12
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