High current metal-ion source for activated deposition

被引：0

作者：

Witke, T ^{[1
]}

Siemroth, P ^{[1
]}

机构：

[1] Fraunhofer Inst Werkstoff & Strahltech, Dresden, Germany

来源：

TRENDS AND NEW APPLICATIONS OF THIN FILMS | 1998年 / 287-2卷

关键词：

metal-ion source; activated deposition;

D O I：

10.4028/www.scientific.net/MSF.287-288.331

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页数：1