High temperature characterization of implanted-emitter 4H-SiC BJT

被引：2

作者：

Tang, Y ^{[1
]}

Fedison, JB ^{[1
]}

Chow, TP ^{[1
]}

机构：

[1] Rensselaer Polytech Inst, Ctr Integrated Elect & Elect Mfg, Troy, NY 12180 USA

来源：

2000 IEEE/CORNELL CONFERENCE ON HIGH PERFORMANCE DEVICES, PROCEEDINGS | 2000年

关键词：

D O I：

10.1109/CORNEL.2000.902536

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

We demonstrate high-temperature characteristics of the first epi-base, implanted-emitter npn bipolar transistor in 4H-SiC. The device shows high current gain with negative temperature coefficient. The turn-off time decreases with increasing temperature.

引用

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