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Plasma chemical vapor deposition of diamond films
被引：0
作者：
Bachmann, PK
机构：
来源：
PHYSICS OF DIAMOND
|
1997年
/
135卷
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
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页码：45 / 71
页数：27
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